Hier können Sie sich die Aufzeichnung unseres Webinars zur Einführung der neuen GPS-Norm ISO 21920:2021 (Profilbezogene Oberflächenrauheit) ansehen. Die neuen Normen zur eindeutigen und funktionalen Charakterisierung von Oberflächen haben sich mit dieser Norm erheblich weiterentwickelt und grundlegend verändert.
In diesem Webinar geben wir Ihnen einen Überblick über die ISO 21920:2021 und damit einen Einblick in die Neuerungen und Änderungen gegenüber früheren Normen.
Begriffserklärung alt und neu
Zeichnungseintragung
Defaults und Bedingungen
Wissenswertes zu Standardparametern
Bewertungsregeln (Tmax, Tmed, T16%)
Lernen Sie gemeinsam mit unseren Experten alles Wichtige über die wichtigen Neuerungen und Vorteile der ISO 21920:2021.
Hannes Kiehl, Application Engineer
Jürgen Horst, Regional Director Central Europe
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Aufzeichnung
DIN EN ISO 21920: 12-2021
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Unsere Kunden setzen auf Qualität
Auszug aus unserer Kundenliste
„Die Definition der Anforderungen und die damit verbundene technische Umsetzung waren durchaus komplex. Aber durch die Flexibilität und technischen Möglichkeiten bei ACCRETECH hat die Umsetzung unserer Anforderungen bestens funktioniert.“
Patrick Polleres
Leiter Qualitätssicherung, Pankl Aerospace Systems Europe GmbH
„Abgesehen von der hervorragenden Wendigkeit und der einfachen Bedienung bot die HANDYSURF+ überaus interessante Zusatzfunktionen, wie etwa die Möglichkeit, es mit dem PC zu verbinden.“
Fabrizio Castadi
Technischer Direktor, Elettro C.F.
„Wir haben seinerzeit nicht erhoben, wie viel Ausschuss wir produziert haben. Doch wissen wir heute sehr wohl, dass sich das ATC Rundlauf-Erkennungssystem schnell amortisiert hat, nämlich innerhalb von drei bis vier Monaten“
Hansjörg Brenner
Betriebsleiter, Klingel GmbH
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ACCRETECH (Europe) GmbH, mit Hauptsitz in München, hat Standorte in Italien, Frankreich, UK, Ungarn sowie der Türkei und arbeitet europaweit mit Vertriebs- und Servicepartnern zusammen. So haben Sie stets Ihren Ansprechpartner vor Ort, der gemeinsam mit Ihnen integrierte Lösungen für die Qualitätssicherung in Fertigungsprozessen sowie für die Halbleiterproduktion verwirklichen kann.
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